MoSi₂N₄ monostrato cresce su wafer
Un gruppo dell'Institute of Metal Research della Chinese Academy of Sciences ha realizzato un film monocristallino monostrato di MoSi₂N₄ su scala wafer. Il risultato avvicina l'integrazione di questo semiconduttore bidimensionale nei chip CMOS 2D, un passaggio rilevante per lo sviluppo di dispositivi elettronici basati su materiali ultrathin.